遷移金属錯体触媒は、中心金属と支持配位子、反応基質の結合と解離、それに伴う分子間の不均化や会合を含む複雑な配位平衡の中で、反応基質の結合切断・形成を引き起こし、活性を発現する。高活性で選択的な触媒の開発には、このような平衡を設計通りに制御することが重要である。本講演では、「配位子の表面固定化」と「配位子による反応場の囲い込み」によってこのような課題に取り組んできた我々の研究成果を紹介する。
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