ケイ素系ナノ構造材料であるシルセスキオキサンは、その優れた機械的特性、熱的特性、電気特性、光学特性などから、新しい機能材料として注目されている。これらは、有機基とケイ素原子が結合した化学構造であること、また、有機成分や無機成分との相互作用が容易なことなどから有機無機ハイブリッドを創製する基幹材料として、その応用範囲は広い。演者は、ゾルゲル法で合成したシルセスキオキサンの光・電子材料への応用について研究している。本講演では、（1）シルセスキオキサンの絶縁性、易塗膜性に着目した有機TFTゲート絶縁膜への応用、（2）光硬化性基を含んだシルセスキオキサンを用いた高屈折率光架橋薄膜への応用に関する最近の研究について述べる。
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