素反応シミュレーションは化学気相堆積（CVD）プロセスにおける製膜速度・組 成を予測するだけでなく，膜モフォロジーや結晶構造などをも予測できる可能性を秘 めている。しかし，CVDプロセスの素反応モデル，とくに表面素反応はほとんど蓄積されておらず，シミュレーションを行うためには素反応モデルの構築から始める必要が ある。本講演では，金属Al薄膜のCVDに関して，実験と量子化学計算の組み合わせによる表面素反応モデル構築手法を述べる。また，得られたモデルをもとに素反応シミュ レーションを行い，表面吸着種濃度に着目してAl膜の表面凹凸を改善した事例を紹介する。
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