シリコンLSIデバイス製造工程において中心的役割をなすプラズマプロセス技術の課題を、加工精度、欠陥形成過程、材料選択性の観点から概観し、MEMSデバイスを含めた将来の多種多様な機能デバイス開発におけるそれら課題の位置づけ、及び今後の展望を議論する。
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